在線CVD制備硅質(zhì)膜技術是以硅烷、乙烯為原料，浮法錫槽為制備硅質(zhì)膜提供了適合的溫度和還原性氣氛。硅烷、乙烯和氮氣按一定比例進入安置在玻璃板上面的反應器，并以穩(wěn)定的層流方式流過玻璃板表面，這時，硅烷借助反應器的特殊結構，并在還原氣氛的條件下，溫度超過400℃時開始分解，形成產(chǎn)物是無定形硅，當溫度超過600℃時，形成多晶硅。多晶硅沉積在玻璃表面形成硅質(zhì)膜層，同時硅烷反應后產(chǎn)生的氫被乙烯吸附，生產(chǎn)乙烷和甲烷。這些多余氣體和呈褐色的多余硅質(zhì)粉一起從反應器兩側的排氣孔排走，其化學反應式如下：

SiH₄→Si+H

C₂H₄+H→C₂O₆(或CH)

浮法玻璃在線鍍硅質(zhì)膜生產(chǎn)工藝示意圖見4-19.

混合氣體經(jīng)由反應器以層流方式流向玻璃板，經(jīng)過擴散、吸附、熱分解和氫解吸附，從而在玻璃板上沉積形成多晶硅膜。

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